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日立 热场式场发射扫描电镜SU5000
面议日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜SU7000
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS)AZtec系列
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS) Quantax75
面议日立 离子研磨仪ArBlade 5000
面议日立 台式显微镜 TM4000II/TM4000PlusII
面议日立 离子溅射仪 MC1000
面议日立 离子研磨仪 IM4000II
面议日立 高精度实时三维分析FIB-SEM三束系统 NX9000
面议日立 高性能FIB-SEM系统 Ethos NX5000
面议日立 CAD导航系统 故障分析导航系统 (NASFA)
面议日立 高性能聚焦离子束系统 MI4050
面议产品介绍:
追求的TEM样品制备工具
在设备及高性能纳米材料的评价和分析领域,FIB-SEM已成为的工具。
近来,目标观察物更趋微细化;更薄,更低损伤样品的制备需求更进一步凸显。
日立高新公司,整合了高性能FIB技术和高分辨SEM技术,再加上加工方向控制技术以及Triple Beam®*1(选配)技术,推出了新一代产品NX2000
产品特点:
加工方向控制技术(Micro-sampling®*3系统(选配)+高精度/高速样品台*)对于抑制窗帘效应的产生,以及制作厚度均一的薄膜类样品给予厚望。
Triple Beam®*1(选配)可提高加工效率,并能使消除FIB损伤自动化
EB:Electron Beam(电子束)
FIB:Focused Ion Beam(聚焦离子束)
Ar:Ar ion beam(Ar离子束)
产品规格:
项目 | 内容 |
FIB镜筒 | |
分辨率 | 4 nm @ 30 kV、60 nm @ 2 kV |
加速电压 | 0.5~30 kV |
束流 | 0.05 pA ~ 100 nA |
FE-SEM镜筒 | |
分辨率 | 2.8 nm @ 5 kV、3.5 nm @ 1 kV |
加速电压 | 0.5~30 kV |
电子枪 | 冷场场发射型 |
探测器 | |
標準検出器 | In-lens 二次电子探测器/样品室二次电子探测器/背散射电子探测器 |
样品台 | X:0 ~ 205 mm Y:0 ~ 205 mm Z:0 ~ 10 mm R:0 ~ 360°连续 T:-5 ~ 60° |
选购件:
● Ar/Xe离子束系统
● Micro-sampling®*3系统
● 缺陷检测设备联用软件
● CAD联用导航软件
● EDS(能谱仪)
● TEM样品精加工向导
● TEM样品厚度管理软件
● 连续A-TEM
● 实时画质优化系统
● Swing加工功能(用于Triple Beam®*1)
● 等离子清洗机
● 真空转移机构
● 冷台