石英存储柜
石英存储柜广泛应用于半导体制造、光伏产业等领域,用于存放和管理石英零部件,确保其在储存过程中的完整性和性能。 参考价¥100000旋转式片盒清洗机
旋转式片盒清洗机是一种高效、自动化的清洗设备,主要用于半导体制造过程中晶圆和芯片的清洗和干燥 参考价¥100000半导体浸泡式片盒清洗机
半导体浸泡式片盒清洗机专为半导体晶圆行业湿法制程设计,通过化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式,对Cassette、FOUP、FOSB、POD、BoatJip、Trip等产品进行高效清洗. 参考价¥100000半导体晶圆硅片HF湿法刻蚀机清洗机
半导体晶圆硅片HF湿法刻蚀机清洗机是利用氢氟酸(HF)或稀释的氢氟酸溶液来去除晶圆表面的氧化物和硅二氧化物,从而实现精确的材料去除。 参考价¥100000制造半导体设备通风柜
制造半导体设备通风柜是实验室常见的一个重要设备,主要作用是用于控制和排除有害气体、蒸汽及微粒等污染物。具体的工作原理是,过风机产生的负压将污染物吸入柜内,并通过过滤装置处理后排放到室外。 参考价¥90000卧式石英舟清洗机
卧式石英舟清洗机是专为半导体制造过程中的石英舟和石英管设计的清洗设备。它通过使用去离子水(DIW)、酸液等药液,对8寸/12寸等多种尺寸的石英舟/石英管进行高效清洗。 参考价¥100000EKC湿法槽式清洗机
EKC湿法槽式清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其主要功能包括去胶、酸洗、中和清洗和烘干等步骤 参考价¥100000CCB提纯灌装清洗系统
CCB提纯灌装清洗系统清洗机广泛应用于食品、饮料、化工等行业中,它通常由多个部分组成,包括清洗槽、喷淋系统、加热系统、控制系统和排水系统等。 参考价¥100000半导体、晶圆、硅片外延部件单片清洗机
半导体、晶圆、硅片外延部件单片清洗机一款用于半导体制造过程中的EPI(Epitaxial)外延部件清洗的设备,主要用于在晶圆上进行薄膜沉积的预镀工艺 参考价¥100000CMP预清洗机生产厂家定制
CMP预清洗机是一种用于化学机械抛光(CMP)工艺前的晶圆清洗设备,主要用于去除晶圆表面的杂质和残留物,以确保CMP工艺的顺利进行。 参考价¥100000风囊泵
风囊泵是高纯度的再循环和供液的理想解决方案,供液温度高达100°C。 PTFE和PFA泵无金属,换向阀无需锁定和手动复位。 可以安全可靠的在两年的保修期内运行。 允许工作压力7公斤(100 psi),可以在100度无需冷却水的热循环中使用。 该泵可在四个型号ST015、ST030、ST060 和 ST140流量为15、30、60和140升/每分钟。 参考价¥5000晶圆化学镀设备
晶圆化学镀设备专为半导体晶圆行业湿法制程设计,通过使用DIW(去离子水)喷淋方式,对晶圆进行高效清洗。该设备适用于手动清洗机台,能够有效去除0.2um以上的particle,且去除率至少达到95%。 参考价¥100000