菏泽力芯电子科技有限公司设计生产 半导体清洗设备、CDS系统、电化学镀设备各种石英存储柜、阀箱、花篮、阀门、泵、接头PFA焊接机等。

半导体清洗设备：包含手动/自动/半自动槽式清洗机、全自动去胶机、自动混酸蚀刻机、单片清洗机等等 ，可根据客户需求定制产品

EKC湿法槽式清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备，其主要功能包括去胶、酸洗、中和清洗和烘干等步骤。

去胶是EKC湿法槽式清洗机的重要功能之一。

在这一步骤中，设备会使用含有氧化剂和酸性物质的化学溶液，通过化学反应使光刻胶溶解或变得容易去除。同时，机械抛动作用能够加速化学溶液与光刻胶的接触，促进反应的进行。酸洗过程中，EKC湿法槽式清洗机会将工件浸泡在酸性溶液中，利用酸性溶液的化学作用去除表面的氧化物和杂质。这一过程能够有效清除表面的污染物，提高工件的洁净度。在去胶和酸洗之后，EKC湿法槽式清洗机会进行中和清洗。这一步骤使用中和溶液来中和残留在工件表面的化学溶剂和电解液，避免对后续工艺造成影响。最终步骤是对工件进行烘干处理。EKC湿法槽式清洗机会通过热风或其他加热方式，将工件表面的水分蒸发干净，确保工件表面干燥无水渍。