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等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX应用领域：光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。高分子材料表面的修饰。封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX
供电电源 | AC220V（AC110V可选) |
工作电流 | 整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵) |
射频电源功率 | 150W |
射频频率 | 13.56MHz |
频率偏移量 | ＜0.2MHz |
特性阻抗 | 50欧姆，手动匹配 |
耦合方式 | 电容耦合 |
真空度 | ≤100Pa |
腔体材质 | 高纯石英 |
腔体容积 | 2L(内径110MMX深度220MM) |
观察窗内径 | Φ65 |
气体流量 | 10—100ml/min（其他量程可选） |
过程控制 | 过程手动控制 |
清洗时间 | 手动开关 |
开盖方式 | 铰链侧开式法兰 |
外形尺寸 | 400x380x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室温度 | 小于65°C |
冷却方式 | 强制风冷 |
标配 | KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。 |
