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小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa) |