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高温蒸镀仪，KT-Z1650CVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。
以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜 
115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 
115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
高温蒸镀仪KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
