DH2008 系列微波 CVD 薄膜制备装置

本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成 参考价面议

DHAP-1 常压微波射流等离子体实验装置

微波源产生2.45GHz的电磁波，沿矩形波导管传输，在谐振腔内的微波天线及其喷嘴正上方的波导开孔处击穿气体放电，产生常压微波射流（MPJ） 参考价面议

DHRP-1 电感耦合射频等离子体装置

装置将13.560MHz射频源加至反应室外的电感线圈,用电感耦合方式激励气体,使其放电产生等离子体.这种方式具有放电效率高、无电极放电污染的特点,并可以获得纯净的等离子体.装置适合大学物理、材料、化学等领域科学研究之用 参考价面议

直流辉光等离子体实验装置

DH2005:DH2006:装置包括可拆卸的气体放电管、测量系统、真空系统、进气系统和水冷系统等部分组成 参考价面议

Table PVD-10 磁控溅射系统

应用领域：本装置是磁控溅射镀膜系统，该系统兼容直流和射频溅射源，可溅射金属、非金属及化合物薄膜(如：ITO)等；广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料、新工艺研究 参考价面议

Table PVD-15 金属和有机物热蒸发系统

应用领域：TablePVD-15一款小型电阻蒸发镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等 参考价面议

MiniLab-30T PVD 薄膜沉积系统

应用领域：适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Al、Au、Ag、Cu等），也可蒸镀各种氧化物材料 参考价面议

MiniLab-30S PVD 薄膜沉积系统

应用领域：该系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜,可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等 参考价面议

MiniLab-60T PVD 薄膜沉积系统

应用领域：适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等,用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等；用于太阳能电池、LED的研究和实验 参考价面议

MiniLab-60S PVD 薄膜沉积系统

应用领域：系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜,可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等 参考价面议

MiniLab-125 PVD 薄膜沉积系统

应用领域：电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜 参考价面议

DH-450 系列 高真空镀膜机

DH-450系列高真空镀膜机为箱式前开门电阻蒸发镀膜设备，采用系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全 参考价面议