应用领域：

电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚 度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。

基本配置：

◆真空腔室：500mm×650mm 不锈钢 D 形腔体。前门铰链方便真空室清理；腔室底板，顶部和侧面装有腔室内硬件接口； 前门上配直径 80 玻璃观察窗（含手动防污染挡板、可拆洗防污玻璃）；腔体水冷。 

◆抽气系统：采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮气压缩比≥ 109 ； 前级泵：VRD-30 双极旋片泵及电磁阀，抽速：8L/S 主抽阀：CCQ-200 超高真空气动插板阀 

* 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

◆真空测量： 数显复合真空计： “两低一高”全量程数显复合真空计； 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

◆极限真空：<5×10-5Pa ◆恢复真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆电子束蒸发源：电子枪采用磁流体密封，安装在腔室底部靠中心位置。 高压电压：DC-3KV ～ -10KV（可设） 电流：0-1000mA（此时的加速电压是 -10kV） 加速功率：10KW；电子束偏转角：270°（永磁铁） 

◆坩埚：配直径 160mm 6 穴直冷坩埚一套，电动转位和点动转位，定位精准。单穴容量≥ 20cc 

◆薄膜镀层控制仪： Inficon SQC-310 在线测量膜厚，可以实时测量蒸发的速度和厚度，带有 PID 控制功能， 可通过膜厚仪自动控制蒸镀速率。 

◆样品台：可容纳样品尺寸，6 英寸样品托一个 , 配挡板，转速 0-30rpm 连续可调 ; 采用基片台背板直接水冷形式；基片采用无氧铜，水冷不控温。 

◆控制单元：15 英寸触摸屏 +PLC 控制

选择配置：

◆样品可加热控温，( 可选带掩膜库系统样品台 ) 温度范围：室温 -600℃，控温精度 ±0.5℃； 

◆电子枪可选用进口品牌 

◆离子束辅助沉积源 

◆全量程真空计 (Inficon)

系统要求标准配置：

◆工艺气体 :25psi，纯度 99.99% 以上 

◆工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

◆电 源 : 三相 380V, 50Hz, 63A 

 ◆冷 冻 水 :18-25℃ , 6L/min，压力 <0.4MPa