应用领域：

该系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜 , 可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学 反应膜等。

螺纹孔基片盘：

基本配置：

◆真空腔室：350×400mm 不锈钢 D 形腔体。前门铰链方便真空室清理；腔室底板，顶部和侧面装有腔室内硬件接口；前 门上配直径 80 玻璃观察窗（含手动防污染挡板、可拆洗防污玻璃）；腔体可选择水冷。 

◆抽气系统： 采用复合分子泵 + 直联旋片泵作为真空抽气系统； 主抽泵：分子泵抽速≥ 600L/S，氮气压缩比≥ 109 ； 前级泵：VRD-24 机械泵及电磁阀，抽速：6L/S 主抽阀： CCD-150 超高真空电动插板阀 

 * 真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 

◆真空测量：数显复合真空计： “两低一高”全量程数显复合真空计； 

* 真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计 

◆极限真空：<5×10-5Pa ◆恢复真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆磁控溅射靶：（最多安装三个磁控溅射靶）磁控溅射靶磁路模块化设计；磁控靶可手动调节溅射角度，靶与基片的距离可调； 其中一个靶位可溅射磁性材料（如镍或铁等）靶材大小为直径 50.8mm，建议厚度≤ 5mm，靶材利用率超过 40%； 

◆镀膜方式：由下往上溅镀或从上往下溅射，可依需求采用 Confocal（共焦）或 Face-to-Face（面对面）； 

◆溅射电源： 射频电源：功率 300W，输出频率：13.56MHz，全自动匹配 数量：1 台 直流电源：输出功率：500W；输出电压：0 ～ -800V 可调 数量：1 台 

◆工艺气路（可选）：三路质量流量计控制的气路（Ar、O2、N2 ）等 

◆样品台：可容纳样品尺寸：4 英寸样品托一个 , 配挡板，转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温， 温度范围：室温 -600℃，控温精度 ±0.5℃； ◆系统控制：15 英寸触摸屏 +PLC 控制（可选手动按钮）

选择配置：

◆样品台可水冷，采用直接式水冷形式，水冷不控温 

◆可选进口溅射电源 

◆磁控靶可选用欧美品牌 

◆全量程真空计 (Inficon) 

◆电容式隔膜真空计 ( 测量溅射工作压力 ) 

◆样品托 : 不锈钢、铝或铜，基片盘上有螺纹孔。

系统要求标准配置：

◆工艺气体 :25psi，纯度 99.99% 以上 

◆工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

◆电 源 : 单相 220V, 50Hz, 32A 

◆冷 冻 水 :18-25℃ , 3L/min，压力 <0.4MPa