DH2008 系列微波 CVD 薄膜制备装置

DH2008 系列微波 CVD 薄膜制备装置

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2024-04-26 20:00:46
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杭州大华仪器制造有限公司

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产品简介

本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成

详细介绍

本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成。适合大学近现代物理、材料、化学等领域进行微波 CVD 原理与方法的教学、研究，金刚石与类金刚石薄膜制备实验及科学研究，以及用于生长碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生长速度快、操作简便、性价比高等优点。同时可完成等离子体刻蚀加工实验、微波等离子体表面改性等实验。

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技术参数

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