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日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
面议日立 光-电联用显微镜法(CLEM)系统MirrorCLEM
面议日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS)AZtec系列
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS)Quantax75
面议日立 球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
面议日立 台式扫描电镜 TM4000II TM4000PlusII
面议日立 透射电子显微镜HT7800系列
面议日立 高性能FIB-SEM系统Ethos NX5000
面议日立 高精度实时三维分析FIB-SEM三束系统NX9000
面议日立 FIB-SEM三束系统NX2000
面议日立 高性能聚焦离子束系统 MI4050
面议产品介绍:
创新的“EM Wizard”界面更加直观,仅需要“点击”即可得到的图像。
超前的电脑辅助技术将电镜的操作与控制提升到一个新水平。
产品特点:
高性能电子光学系统
二次电子分辨率: 顶位二次电子探测器(2.0 nm at 1kV)*
高灵敏度: 高效PD-BSD, 的低加速电压性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微区分析
性能优异:
压力可变: 具有优异的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配备高灵敏度低真空探测器(UVD)*
开仓室快速简单换样(样品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微区分析: EDS, WDS, EBSD等等
产品规格:
项目 | 内容 | |
分辨率 | 1.2nm @ 30 kV | |
3.0nm @ 1 kV | ||
2.0nm @ 1 kV 减速模式*1 | ||
3.0nm @ 15 kV 低真空模式*2 | ||
放大倍率 | 10 -600,000×(底片倍率),18-1,000,000×(800×600 像素) | |
30-1,500,000×(1,280×960像素) | ||
电子光学系统 | 电子枪 | ZrO/W 肖特基式电子枪 |
加速电压 | 0.5-30kV(0.1kV步进) | |
着陆电压 | 减速模式:0.1-2.0kV*1 | |
束流 | >200 nA | |
探测器 | 低位二次电子探测器 | |
低真空模式*2 | 真空范围:10-300Pa | |
马达台 | 马达台控制 | 5-轴自动(优中心) |
可动范围 | X:0~100mm | |
Y:0 ~ 50mm | ||
Z:3 ~ 65mm | ||
T:-20 ~ 90° | ||
R:360° | ||
样品尺寸 | 直径:200mm | |
高度:80mm | ||
选配探测器 |
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*3:空压机(本地采购)
应用实例:
样品: 氧化锌粉末
着陆电压: 1 kV ; 倍率: 120,000x
低电压下顶位二次电子探测器成像
样品: PTFE
加速电压: 3 kV ; 倍率: 13,000x
UVD探测器可在低加速电压(3 kV)和低真空
(40 Pa) 下获得高质量图像