品牌
其他厂商性质
上海市所在地
日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
面议日立 热场式场发射扫描电镜 SU5000
面议日立 光-电联用显微镜法(CLEM)系统MirrorCLEM
面议日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS)AZtec系列
面议日立 TM系列专用能谱仪(EDS)Quantax75
面议日立 球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
面议日立 台式扫描电镜 TM4000II TM4000PlusII
面议日立 透射电子显微镜HT7800系列
面议日立 高性能FIB-SEM系统Ethos NX5000
面议日立 高精度实时三维分析FIB-SEM三束系统NX9000
面议日立 FIB-SEM三束系统NX2000
面议产品介绍:
MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统:新型电子光学系统,可达到高水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率,使得高品质TEM样品制备成为可能
可用于截面加工观察,高品质TEM样品制备,电路修复,Vector Scan加工,微纳米级微细图形及磨具加工,利用沉积功能制作3维构造等众多样品加工应用。
探针电流90nA,实现快速加工和大面积加工
焊线的截面加工
(加工尺寸 宽:95µm 深:55µm, 加工时间 20min)
通过提高极低加速电压(0.5kV~)加工及低加速电压二次电子图像分辨率,实现制备损伤率更低的TEM样品
* 1kV以下为选配
可观察高分辨率SIM成像(二次电子成像分辨率高达4nm@30kV)
采用高精度5轴电动机械优中心马达台
可在样品台移动(包括倾斜)时自动对多个部位进行多种加工。
*的操作性能和多种多样的加工模式
1、截面制备程序加工
2、TEM/STEM样品程序加工
3、自动连续加工
4、TEM样品自动连续精加工软件
5、位图加工
6、Vector Scan加工
7、制备纳米精度三维结构样品 其他
悬空纳米导线制作
样品来源:兵库县立大学 松井真二 先生
SIM像三维重构分析
等间隔截面加工与截面观察的往复进行,可取的多张截面连续SIM像,并进行3维重构。由此可判断样品中颗粒,孔洞等3维分布状态。
使用多路气体系统(MGS-II)修复电路
该系统可对应保护膜材料、配线材料、绝缘膜、加速蚀刻等多种用途,照射多种气体。
1、钨沉积气体
2、铂沉积气体
3、绝缘膜制备用沉积气体
4、氟化氙蚀刻气体
5、有机类蚀刻气体
6、碳沉积气体
使用XeF2气体实现的大深径比孔加工以及采用钨沉积引线
丰富多样的坐标链接功能
日立公司的坐标链接功能丰富多样,可确定正确的加工位置和大幅缩短时间。
1、光镜图像与SIM像的链接
双光标功能
日本第4634134号 美国第7595488号
2、与缺陷检测设备建立坐标链接
已截断的晶元或芯片也可与缺陷检测设备建立坐标链接。
3、CAD联用导航软件
产品规格:
项目 | 内容 |
样品尺寸 | 50mm×50mm×12mm(t)以下 |
样品台 | 5轴电动机械优中心马达台 |
加速电压 | 1~30kV (0.5kV~ 选配) |
(0.5~1.0kV : 步长0.1kV) | |
(1.0~2.0kV : 步长0.2kV) | |
二次电子分辨率 | 4nm@30kV |
探针电流 | 90nA |
探针电流密度 | 50A/cm² |
产品选购件:
1、4通道供气系统
2、自动连续加工软件
3、TEM样品自动加工软件
4、控制器显微镜 其他
*:可选择其他MI系列的各种选配件。