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日立 超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
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日立 热场式场发射扫描电镜 SU5000
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日立 光-电联用显微镜法（CLEM）系统MirrorCLEM
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日立 超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
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日立 TM系列专用能谱仪（EDS）AZtec系列
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日立 TM系列专用能谱仪（EDS）Quantax75
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日立 球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
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日立 台式扫描电镜 TM4000II TM4000PlusII
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日立 透射电子显微镜HT7800系列
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日立 高性能FIB-SEM系统Ethos NX5000
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日立 高精度实时三维分析FIB-SEM三束系统NX9000
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日立 高性能聚焦离子束系统 MI4050
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产品介绍：
追求的TEM样品制备工具
在设备及高性能纳米材料的评价和分析领域，FIB-SEM已成为的工具。
近来，目标观察物更趋微细化；更薄，更低损伤样品的制备需求更进一步凸显。
日立高新公司，整合了高性能FIB技术和高分辨SEM技术，再加上加工方向控制技术以及Triple Beam?＊1（选配）技术，推出了新一代产品NX2000
产品特点：
运用高对比度，实时SEM观察和加工终点检测功能，可制备厚度小于20 nm的超薄样品
FIB加工时的实时SEM观察＊2例
样品：NAND闪存
加速电压：1 kV
FOV：0.6 μm
加工方向控制技术（Micro-sampling?＊3系统（选配）+高精度/高速样品台＊）对于抑制窗帘效应的产生，以及制作厚度均一的薄膜类样品给予厚望。
Triple Beam?＊1（选配）可提高加工效率，并能使消除FIB损伤自动化
EB：Electron Beam（电子束）
FIB：Focused Ion Beam（聚焦离子束）
Ar：Ar ion beam（Ar离子束）
