紫外曝光机
型号： MA6
厂家： 德国Karl Süss公司
技术指标:
曝光光源：UV1000
光源波长：365nm
光源均匀性：<3.1%
晶片尺寸：2-6英寸
接触方式：真空，低真空接触, 硬接触， 软接触和接近式接触
对准模式：正和背面两种对准方式
最小线宽：0.5 μm
对准精度: ±0.5 μm
主要功能及应用范围：
采用紫外光源，制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作下列器件结构：微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等，也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。
主要附件: 涂胶机；HP8热板；显影机，光学显微镜
