场发射扫描电子显微镜 SU9000
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上海西努光学科技有限公司
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特点:
· 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。 0.4 nm / 30 kV (SE) 1.2 nm / 1 kV (SE) 0.34 nm / 30 kV (STEM) · 用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。 · 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
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