纳米*乳膏高剪切胶体磨
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纳米*乳膏高剪切胶体磨

NKD2000纳米*乳膏高剪切胶体磨

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2016-01-05 16:53:36
396
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切可(上海)机械设备有限公司

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产品简介

纳米*乳膏高剪切胶体磨采用德国*的定转子技术以及皮带传动技术,将德国*的胶体磨技术与德国*的超高速分散机技术合二为一,设备即兼顾了高速研磨剪切,又具体了超高速分散、乳化、均质等功能。转速Z高可达14000rpm,线速度Z高可以44m/s。设备拥有很强的研磨分散能力。

详细介绍

             纳米*乳膏高剪切胶体磨

*乳膏简介

*乳膏是一剂皮肤科乳膏剂,对皮质类固醇治疗有效的非感染性炎症皮肤病。如脂溢性皮炎接触性皮炎异位性皮炎、局限性神经性皮炎钱币状皮炎寻常型银屑病

*是一个强效含卤基的外用糖皮质类固醇药物,具有良好的抗炎、抗表皮增生、抗过敏、收缩血管及止痒等作用。通过与甾体受体结合,可改变与病因相应的蛋白质的合成;或作用于炎症细胞及溶酶体,调节炎症反应。本品无抑制肾上腺轴的作用;无致癌作用

 

纳米*乳膏高剪切胶体磨简介

纳米*乳膏高剪切胶体磨采用德国*的定转子技术以及皮带传动技术,将德国*的胶体磨技术与德国*的超高速分散机技术合二为一,设备即兼顾了高速研磨剪切,又具体了超高速分散、乳化、均质等功能。转速zui高可达14000rpm,线速度zui高可以44m/s。设备拥有很强的研磨分散能力。

 

CIK。NK2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um

CIK 2000系列在线设备的其他优势: 

· 低噪声标准

· 提高泵送、混合和分散效果

· 通过皮带驱动,调速简便。

· 立式设计,可自排空物料

· 由于集装式设计,采用抗腐蚀材料的优质密封件,保养维修简单。

· 高品质表面光洁度符合FDA / EHEDG的卫生要求

· 所有设备都有CIP/SIP能力

· 占地面积小

· 可以根据客户要求提供防爆性能(ATEX)

· 可以根据客户要求定制高品质处理的表面和特殊材料

 

选型表


 

标准流量(H2O)

输出转速

标准线速度

马达功率

进出口尺寸

型号

l/h

rpm

m/s

kW

 

NKD 2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NKD 2000/5

1,000

6000

23

7.5

DN40 /DN 32

NKD 2000/10

3,000

4200

23

22 

DN50 / DN50

NKD  2000/20

8,000

2850

23

37

DN80 /DN 65

NKD  2000/30

20,000

1420

23

55

DN150 /DN 125

NKD  2000/50

60000

1100

23

110

DN200 /DN 150

 

 

 

 

 

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