RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，是目前国际的新型XAFS/XES光谱仪。RLK900居于新原理和新结构；采用的、的SBCA晶体，实现X射线的单色扫描；采用小功率的X-Ray源，使研究试验室内就能够方便运行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)两种光谱的研究，能够获得扫描范围5keV-12keV，分辨率优于1eV的谱线。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，将信号探测、扫描控制、数据显示高度集成化，使用前只需简单的参数设置、校准确认，即可方便进行研究试验。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪，作为一种目前国际型的仪器，为各种材料研究分析拓展手段，用户能够在实验室就能随时开展研究，而不再受到条件限制。可广泛应用于各种材料研究分析领域，包括纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、特种材料、矿产分析等。将成为材料研究必选设备。

v 产品特点(Features)

Ø 新原理新构造：居于新原理和新构造的X-ray光谱仪；

Ø 高分辨率：    采用的、的SBCA晶体作为核心器件，实现X射线单色扫描，分辨率达到1eV；

Ø 高品质能谱曲线：与同步辐射相当品质的能谱曲线；

Ø 试验室仪器：  在试验室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到条件限制；

Ø 高集成性：    仪器集成探测、控制、分析，软件运行于Windows操作系统；

Ø 应用面广：    纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、特种材料、矿产分析等各种材料研

究分析领域

v 技术指标(Specification)