本多超声波清洗机W-200-HFMK II

W-200-HFMK II 投入式、振动板式本多超声波清洗机W-200-HFMK II

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-02-06 18:00:31
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产品简介

本多超声波清洗机W-200-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗,对工件损伤很少。并且和低频清洗相比,具有清洗效果均匀,噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘,半导体,液晶等微小的赃物。
适合于染色,脱气,溶解,搅拌等用途
使用于磁头,镜片等的染色和脱气,化学品的溶解和搅拌等。

详细介绍

本多超声波清洗机W-200-HFMK II  适合细腻的清洗
因为中频清洗,对工件损伤很少。并且和低频清洗相比,具有清洗效果均匀,噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘,半导体,液晶等微小的赃物。
适合于染色,脱气,溶解,搅拌等用途
使用于磁头,镜片等的染色和脱气,化学品的溶解和搅拌等。

型号:W-200-HFMK II T
振荡方式:单频振荡
zui大功率:200W(可调整功率)
振荡频率:200KHz
振荡器电源:AC100V/6A、AC200、220V/3A
           (定货时选择)
外形尺寸(mm)W×D×H:3000×430×140
使用液温范围:50℃
换能器类型:投入型换能器、振动板型换能器

 

:王工销售工程师
021-
wangrenyong2005.cn     
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