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1.技术参数：
输入电压 | AC220V±10%，50Hz |
工作电压 | DC2400V |
功率（主机与机械泵） | 500W |
| 工作原理 | 直流溅射 |
可选靶材 | 金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属 |
真空泵 | 两级直联旋片式真空泵 1L/s |
真空腔 | φ128×130mm |
样品杯 | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
整机尺寸（长×宽×高） | 424×271×255（mm） |
重量（主机） | 11 kg |
工作环境 | 温度 5～40℃，湿度<60% |
存储环境 | 温度-10~60℃，湿度<80% |
工作气体 | Air / Ar |
保护功能 | 过流、真空双保护 |
2.处理效果：（金靶，颗粒尺寸20~50nm）
处理前
处理后
