描述：

仪器简介：

Spectra Thick, K-MAC公司的薄膜厚度测量系统，采用的是光学技术方法。在薄膜的表面利用反射光和在下部的界面反射的光之间的干涉现象或是利用光的相位差来决定薄膜的性质。这样我们不但可以测量薄膜厚度还可测量光学常数。如果是透明薄膜且可维持光的干涉性，用ST系列可测量任何样品。通过数学计算多层薄膜的每个层的厚度都可测量。由于采用的是用户友好界面，操作十分简单。样品不会受到损害，并可快速测量从Å到数十㎛的大范围厚度。

技术参数：

测量方法： 非接触式
测量原理：反射计
类型：手动的
平台尺寸： 4" （可选6" ）
活动范围：150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围 ：200Å~ 35㎛(根据膜的类型)
光斑尺寸：20㎛ 典型值 （可选10㎛、50㎛）
测量速度：1~2 sec./site
物镜转换器：Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
照明类型：12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer
尺寸：190 x 265 x 316 mm
重量：12Kg
探头类型：三目探头
可供选择：标准样品(K-MAC or KRISS or NIST)

应用领域：

半导体：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
介质材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光学涂层：硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装与功能薄膜...
太阳能电池： Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
聚合物：PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
其他：示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜...　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

主要特点：

测量迅速，操作简单
非接触式，非破坏方式
优秀的重复性和再现性
用户易操作界面
每个影像打印和数据保存功能
可测量多达3层
可背面反射