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一、设备概述
曝光机设备专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备,系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧,曝光解析度20UM。
二、设备规格以及主要技术指标
◆产品规格:有效曝光面积400MM x 500MM 曝光平台面积> 500MM x 600MM
◆电源: AC380V 3f 50HZ 7KVA ◆机台外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM ◆曝光方式:单面曝光玻璃VS玻璃x 2组,采用电磁锁控制 ◆曝光灯管: 5KW x 1PCS(平行光曝光灯)曝光光强> 20MW/Cm,灯管保用800H ◆光学系统:采用进口曲面MIRROR反射光学系统 ◆曝光均匀度: > 90% ◆冷却系统:灯管:外部冰水冷却内循环水.台面:强制气冷式 ◆曝光控制器:智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式) ◆真空系统: 400MMHG以上 ◆冷水系统:冰水7-12C流量60L /MIN,进出水管径1” ◆灯源: UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急
停止保护)
◆空压系统: 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN ◆平行半角: DA<2。 ◆曝光精度:线路宽30UM,线间距30UM ◆曝光能量设置: 365NM ◆点灯计时:配置时间计时器,可清零 ◆平台平面精度: 0.02MM内 ◆平台真空:平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用) ◆平台进出曝光区:上下框架交替进出 ◆机内环境: CL ASS100内 ◆检测系统:程序及传感器检测动作到位状况 ◆灯管保护:灯室过热检知及门打开时UV灯强制熄灭