主要特点

1.采用4C真空泵，各方面降噪，提升实验感受；

2.标配样品室真空表和溅射电流表，实时显示和监控仪器状态；

3.边缘橡胶密封圈，长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象。

4.配置溅射电流控制器和微型真空气阀。结合自动控制电路，轻松控制真空室压强、电离电流，并可任意选择所需电离气体，以获得很好的镀膜效果；

5.标配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸纯金靶，溅射范围更大；

控制面板：

真空表：真空度的计量单位mmHg或Pa相对应的刻在表盘上，可方便的读出工作室内的真空度。

电流表：显示溅射电流值单位(mA)。

微调阀(充气阀)：用于向工作室内进行充气，

试验按钮：配合针阀设置，以便获得满意的溅射电流值（小于10mA）。

溅射按钮：当“实验”按钮电流小于10mA时，可以按“溅射”按钮，对样品进行离子溅射。

时间设定开关：控制离子溅射时间，定时开关10～110S.

电源开关：控制仪器机箱电源及机械泵的通断。

高纯石英真空腔体Φ130（内118）*130mm

样品台尺寸：Φ42mm

样品台可调高度：75mm

电气规格

AC220V 120W

腔体尺寸

Φ130（内118）*130mm

样品台尺寸

Φ42mm

样品台可调高度

样品台可调高度：75mm

样品温度

＜35~50℃

适用靶材

贵金属AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常规金属Cu、W、Ag 、Cr 等

溅射速度

一般来说，用于扫描样品时金属的厚度为100-300Å,采用经验法测定厚度，可由下面的公式得到

d = KIVT

其中： d：是镀膜厚度(单位Å)

K：是常数，取决于溅射金属和所充气体(采用金靶和氩气时K为0.17，金靶和空气K为0.07)，此时靶与样品之间的距离

I： 是等离子流(单位mA)

V：是所施电压(单位kv)

T“”是时间(单位s)。

例如采用金靶和氩气，l为8mA,T为100秒，V为1KV

则, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136Å

即每秒1.36Å

溅射速度依赖于溅射系统本身的清洁程度，因此保护工作室的清洁十分重要。

其它金属靶的溅射速度，例如铂靶大约是金靶一半的速度，金一铂靶则具有与金靶非常接近的溅射速度。

设备使用注意事项

1.靶材的更换

先拔下溅射盖板上高压和地线插头，拿下溅射盖板，松开三只顶丝，拿下保护板，然后拧下压环就可以更换新靶。

2.真空工作室清洗

腔体工作室用无水乙醇、丙酮清洗，以保证系统能正常工作。

3、针阀使用

针阀关闭后再反向拧两圈，以防止针阀长时间不用出现阀针回弹不灵活的现象。如遇到打开针阀时不向工作室放气，请将针阀钮拧到底后再重新打开即可。

标配

1.NBD-4C真空泵； 2 金靶1只：Φ58*0.12 3.说明书一份.（可选配分子泵）

服务支持

一年保修，提供终身服务；

净重

25KG