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二手ASML光刻机,KrF曝光机现货
面议日本尼康Nikon二手翻新定制曝光机分步投影光刻机NSR-S204B
面议ASML 步进式扫描DUV光刻机 ArF曝光机 NXT1970Ci/1980Di
面议ASML KrF曝光机,二手光刻机AT: 850B
面议ASML ARF曝光机,二手翻新步进扫描光刻机PAS 5500-750C
面议离子色谱仪(内置淋洗液发生器)CIC-D160型
面议NexgenGC气相色谱仪
面议复合盐雾试验箱ZLHS-60-WSH
面议球差场发射透射电子显微镜 HF5000
面议球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
面议透射电子显微镜HT7800系列
面议超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
面议日本东京电子公司生产的TEL牌涂胶显影机CLEANTRACK ACT8/12,是有着良好性能和可靠性的半导体微电子生产设备,是可对应200/300mm硅片生产的涂胶显影设备。
半导体制造设备涂胶显影机,应用于半导体制造的光刻工艺中,是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。在该设备的涂胶(coat)单元中,硅片上面的感光剂首先被涂布,后被送到曝光设备里,通过光刻机将MASK上面图形投影到硅片上。
接下来,硅片回到涂胶显影机的显影单元中,通过对硅片表面感光胶喷涂显影液,使被感光部分的感光剂融化,这样wafer上就出现了凹凸的图形。经过各种工序重复,最终就形成了细微而复杂的集成电路。