C&D 360LOGAN禄亘涂布机C&D 360
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LOGAN禄亘涂布机C&D 360
美国恩威ENwave激光拉曼光谱仪A5
美国恩威Enwave激光拉曼光谱仪B系列
C&D 360涂布机采用双锋刮刀设计,将含有药物的基质缓慢平稳涂抹在离型膜等底材上,获得厚度均一的涂层。适用于实验室制备贴剂、贴膏剂、巴布剂和科研膜剂等。
主要特点:
稳定性高、无振动,确保涂层均匀
废料收集盘设计,减少样品浪费
刮刀可升降功能,便于清洁
配备水平调节装置
触摸显示屏、参数设置简便,支持多语言切换
可选择手动或自动数控模式调节涂布厚度
可实现单刀双锋设计涂布,进一步提高涂布均匀度
可选配加热烘干装置,同时具有吸附刺激气味和排风辅助降温功能
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