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面议产品名称:DS-2000/14G型光刻机 | ||
主要技术指标: | ||
单次曝光面积:1.4mm×1mm | ||
曝光基片:100mm ×100mm | ||
对准精度:±0.8μm(半自动对准) | ||
胶厚:300μm(SU8胶) | ||
自动逐场对焦; | ||
分辨力:1μm; | ||
X、Y、Z、θ四自由度电动位移台 | ||
X、Y平移重复定位精度:0.65μm(3σ) | ||
Z向运动精度:1μm | ||
技术特点: | ||
该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。 |