半导体行业产品清洗用超纯水设备在设备设计上，采用成熟、可靠、*、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流*可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。半导体行业产品清洗用超纯水设备大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。我们公司专业生产RO＋EDI＋精混床超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势，在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、*国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在太阳能光伏电池、LED、LCD、显像管、液晶显示器、半导体、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置，得到了业界的广泛赞誉，欢迎广大客户前来参观考察。半导体行业，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用超纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求。