光电行业用超纯水设备

操作压力：小于1.6（Mpa）
操作压力：0.3（Mpa）
水电阻率：18
出水量：3
外形尺寸：1000*3000（cm）
电压：380（V）
水质：200
功率：5.5（w）
电导率：10
脱盐率：99.7（%）
单机出力：3（/h）

　　光电行业用超纯水设备

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合：
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；
☆高品质显像管、萤光粉生产；
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；
☆实验室和中试车间；
☆汽车、家电表面抛光处理；
☆光电产品；
☆其他高科技精微产品；

光电行业水质标准：
我公司电子级超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。