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Intel要尝鲜!ASML新一代EUV光刻机开造

来源:快科技
2021/9/2 9:01:34
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导读:ASML当前一代极紫外光刻机可以制造出分辨率为13nm的芯片。新一代极紫外光刻机将使用更高数值孔径来制作8nm大小的特征图案。
  据外媒新报道称,ASML已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机,其每台造价达到了1.5亿美元,约合人民币近97亿元。
 
  据悉,在位于美国康涅狄格州郊区的一间大型洁净室里,ASML工程师们已经开始为一台机器制造关键部件,这台机器有望让芯片制造行业沿着摩尔定律至少再走上10年时间。
 
  新一代极紫外光刻机大约有一辆公共汽车那么大,造价1.5亿美元。整个机器包含10万个部件和2公里长的电缆。每台机器发货需要40个集装箱、3架货机或者20辆卡车。只有诸如台积电、三星和Intel等少数公司能买得起这种机器。
 
  “这真是一台不可思议的机器,”麻省理工学院研究新型晶体管架构的教授Jesús del Alamo说。“这绝对是一款革命性的产品,是一项突破,将给芯片行业带来新的生命。”
 
  造好的组件将于2021年底运往荷兰维荷芬,然后在2022年初安装到新一代极紫外光刻机的第一台原型机中。Intel可能会使用这种新机器制造出第一批芯片。
 
  Intel表示,预计将在2023年下线第一批芯片。凭借比以往任何机器所蚀刻的图案尺寸更小,让每个芯片都有数百亿个元件,这台机器在未来几年所生产的芯片应该是处理速度快、效率非常高的。
 
  值得一提的是,新一代极紫外(EUV)光刻机采用更大的数值孔径来进一步缩小芯片上的元件尺寸。这种方式允许光线以不同角度穿过光罩,从而增加图案成像的分辨率。这就需要更大的镜子和新的软硬件来精确控制组件蚀刻。
 
  ASML当前一代极紫外光刻机可以制造出分辨率为13nm的芯片。新一代极紫外光刻机将使用更高数值孔径来制作8nm大小的特征图案。
 
  目前台积电在芯片制造过程中使用的就是极紫外光刻技术。其客户包括苹果、NV和Intel。
 
  (原标题:Intel要尝鲜!ASML新一代EUV光刻机开造:造价、配置堪称无敌)

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