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KRi 霍尔离子源 EH 2000 望远镜镜片镀膜应用

上海伯东美国 KRi 大尺寸霍尔离子源 EH 2000 安装于高性能电子束光学镀膜机, 实现 300 mm 望远镜镜片镀膜.

KRi 霍尔离子源 EH 2000 望远镜镜片镀膜
设备: 电子束镀膜机
应用: 光学镀膜, 300 mm 望远镜镜片镀金 Au, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜, 黄金对于红外波段有着高的反射率, 增强镜面的红外线反射能力.

工艺过程: IBAD 辅助镀膜, 通过使用美国 KRi 霍尔离子源可以实现增强和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改进, 控制薄膜化学计量, 提高折射率, 降低薄膜应力, 控制薄膜微观结构和方向, 提高薄膜温度和环境稳定性, 增加薄膜附着力, 激活表面,平滑的薄膜界面和表面,降低薄膜吸收和散射,增加硬度和耐磨性.



KRi 霍尔离子源 EH 2000 特点

上海伯东同时提供 e-beam 电子束蒸发系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发更高质量的设备.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域. 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRi 霍尔离子源,
请联络上海伯东: 叶女士  分机101
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