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氧化铝研磨分散机,广东纳米分散机,IKN研磨分散机在氧化铝中的应用
纳米三氧化二铝(又名氧化铝)粒径分布均匀,电阻率高,具有良好的绝缘性能,广泛用于塑料,橡胶,陶瓷,涂料等绝缘性能要求高的领域。
纳米氧化铝用途:.绝缘材料陶瓷粉(纳米氧化铝)VK-L20涂层导,热绝缘复合材料,高压引入棒的绝缘体材料,满足X7R需要的多层陶瓷芯片电容器的绝缘材料
中国氧化铝企业达40多家,已建和在建产能达4350多万吨/年,其中处理国内铝土矿的产能为3250万吨/年,是世界*大氧化铝生产国。 但是由于技术问题,我国生产的氧化铝产品以中低端为主流,价格低廉,生产设备落后,能耗大,利润不高。特别是纳米三氧化二铝产能不高,产品基本被跨国企业垄断。
在制备纳米氧化铝粉体过程中,由于其比表面积大,表面能高,容易产生粉末的团聚,破坏材料性能,所以现在将常规微米级氧化铝研磨成纳米级氧化铝,粉末团聚成了一个难题。上海IKN为应对这种现状研发的研磨分散机,很好的解决了这个难题。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
CMD2000系列研磨分散机的结构(氧化铝研磨分散机,广东纳米分散机,IKN研磨分散机在氧化铝中的应用):
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
CMD2000系列研磨分散机的特点(,广东纳米分散机,IKN研磨分散机在氧化铝中的应用):
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3.如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准.
研磨分散机和均质机的作用对比:
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。