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DELTA OHM数据记录器HD50PM
¥1350DATEXEL温度变送器DAT 1010
¥1300CROMPTON面板指示器016 SERIES FIESTA
¥1450CORCOM压力传感器MEAS系列154BC
¥1450丹麦SENS4压力变送器PCM-1
¥1600CAMFIL空气净化器Zephyr III
¥1450BGK红外线加热器AUTOCURE
¥1100BENTRUP控制器TC 500
¥1350BACHARACH一氧化碳分析仪Monoxor Plus
¥1350AUSTART涡轮起动器ATS93
¥1300ANTUNES CONTROLS压力开关
¥1300ANDERSON-NEGELE温度传感器TSBA
¥1350美国麦奇克Microtrac喷雾粒度分析仪
天津赛力斯销售美国麦奇克Microtrac喷雾粒度分析仪,
产品范围:
美国麦奇克Microtrac激光粒度分析仪、麦奇克Microtrac电位分析仪、麦奇克Microtrac、麦奇克Microtrac喷雾粒度分析仪、麦奇克Microtrac动态颗粒图像分析仪
品牌介绍:
美国麦奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上著名的激光应用技术研究和制造厂商,其先进的激光粒度分析仪已广泛应用于水泥,磨料,冶金,制药,石油,石化,陶瓷,等领域,并成为众多行业的质量检测和控制的分析仪器。Microtrac Inc.公司非常注重技术创新,近半个世纪以来,一直*着激光粒度分析的前沿技术,可靠的产品和强大的应用支持及完善的售后服务,使得其不断超越自我,推陈出新,。麦奇克Microtrac以其在激光衍射/散射技术和颗粒表征方面的独到见解,经过多年的市场调研和潜心研究,开发出一代Zetatrac微电场分析技术,融纳米颗粒粒度分布与Zeta电位测量于一体,无需传统的比色皿,一次进样即可得到准确的粒度分布和Zeta电位分析数据。与传统的Zeta电位分析技术相比,Zetatrac采用先进的“Y”型光纤探针光路设计,配置膜电极产生微电场,操作简单,测量迅速,无需精确定位由于电泳和电滲等效应导致的静止层,无需外加大功率电场,无需更换分别用于测量粒度和Zeta电位的样品池,*消除由于空间位阻(不同光学元器件间的传输损失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差异,分散介质的影响,颗粒间多重散射等)带来的光学信号的损失,结果准确可靠,重现性好。
技术数据:
Microtrac S3500激光粒度分析仪系列产品:
蓝波2型(BWDL)):湿法测量范围:0.01-2,800μm;干法测量范围:0.25-2,800μm蓝波1型(BWSL)):湿法测量范围:0.01-2,000μm;干法测量范围:0.25-2,000μm
增强型(Enhanced):湿法测量范围:0.02-2,800μm;干法测量范围:0.25-2,800μm
扩展型(eXtended):湿法测量范围:0.02-2,000μm;干法测量范围:0.25-2,000μm
特殊型(speciaL) : 湿法测量范围:0.09-1,500μm;干法测量范围:0.25-1,500μm
标准型(Standard):湿法测量范围:0.25-1,500μm;干法测量范围:0.25-1,500μm
型(High): 湿法测量范围:2.75-2,800μm;干法测量范围:2.75-2,800μm
基本型(Basic) : 湿法测量范围:0.70-1,000μm;干法测量范围:0.70-1,000μm
Microtrac喷雾粒度分析仪技术参数:
测量范围:0.5um一2,000um
测量方法:静态激光衍射分析技术,全量程米氏理论处理
系统自动对焦,实时检测,分析时间短
自动触发,可实现脉冲喷雾测量
数据处理灵活方便,兼容Windows系列版本
可选型号:SPR3500A(标准型),SPR1500A(大角度)
可选附件干法喷雾器(PD--10S),湿法分散器(SC一13),运动底座(MB-600)
Microtrac动态颗粒图像分析仪技术参数:
多于30种的形态参数
干法的测量范围:4μm --4,500μm
采用压缩空气分散精细粉末
相机速度:至少100幅/秒,高分辨率相机
坚固而紧凑的外观设计
封闭式的光学系统,减少停机维护
测试方法:动态颗粒图像实时分析
样品用量:0.5-50g
测量时间:1-5分钟的双光路一体化设计
用户可自行定义被测样品的上下限粒度阈值,进行趋势分析,统计被测颗粒的数量,及时反馈调准
天津赛力斯自创立以来一直秉承"以诚兴业,共存共荣"的经营理念,视客户与伙伴为挚友,视员工为公司宝贵财富,团结*,开拓创新,勇于打破行业发展瓶颈,逐步构建并扩大公司在自动化领域的一体化供销网络与服务中心。"整合行业优质资源,力争行业好口碑,勇做行业发展引擎"将是赛力斯人永远的追求,我们愿与更多的用户和国内外优质品牌供应商携手并进,一起为国内工业发展贡献力量,共同发展,共同繁荣。