真空镀碳仪

真空镀碳仪

技术规格说明
样品仓尺寸：φ150mmX110mm
蒸发面积：约Φ140mm
高真空度：≤4×10-2mbar
工作电压：220V,50HZ
蒸发输出：电压30V
蒸发靶材：碳棒、碳绳
蒸发大电流：约100A

理想膜层的特点
1.良好的导热和导电性能。
2.不管样品的表面形貌如何，覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。
3.膜层对样品的化学成分干扰很小，对从样品中发射的X射线强度影响很弱。
4.这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能，相较于导电金属膜层的厚度普遍在10nm以上；可提供碳的镀层，在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点，避免引入不必要的人为图像，镀层精细均匀，适合粗糙的样品，高分辨研究。
5.可以喷碳（碳棒或碳绳），有利于对样品中非碳元素的能谱分析。
6.非导电样品观察背散射电子图像，进行EBSD分析，也应该喷碳处理。

主要用于扫描电镜 EDS 样品镀导电膜 ，仪器操作简单方便，是配合SEM 制样的仪器。

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