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Advanced Radiation Corporation的深紫外光(DUV)短弧灯常用于短波长高强度紫外光刻，其设计、

制造和性能。

深紫外线辐射是由汞-氙等离子体产生的。在光源制造过程中，必须仔细控制等离子体成分的精确浓

度和比例，以获得输出辐射转换的大输入功率。这里所描述的八种DUV灯代表了美国DUV曝光设备和系

统的主要制造商三年多的研究和开发成果。

这些灯适用于几种DUV光刻配方。聚甲基丙烯酸甲酯在210 ~ 260nm范围内敏感;200 - 330nm;AZ2400

系列，范围240 - 310nm;而ODVR系列在200到315 nm的范围内都很敏感。

产品型号：

DUV-350

DUV-500

DUV-1000

DUV-2000

DUV-350-30118

DUV-500-30036

DUV-500-30055

DUV-500-30056