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●成都汉普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升，在服务领域深耕细作，具有较深的技术沉积。
公司成立以来，在自己所擅长领域为客户提供优良的产品和技术解决方案，公司注重产品和运营模式创新，我们坚信：唯有创新方能给用户增值，公司已与多家科研院所、高等院校及企事业单位进行横向合作，形成了科研级、工业级产品体系，已为客户设计制造了多套专用设备和仪器，获得了用户广泛赞誉。
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
