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一、设备用途：
本设备主要用于氧化铝陶瓷基片的烧成，要求基片排胶、烧结、冷却为一体;同时还要用于氧化铝基片的复平。既要满足氧化铝陶瓷基片的排胶烧成工艺，又要满足氧化铝陶瓷基片的复平工艺。本窑炉净长30米，带全自动循环回转线，产品装卸料在回转线上完成。产品出料为自动连续式。
二、设备技术参数：
1.温度：1650℃。
2.常用温度：1620℃。
3.工作室尺寸：30000×370×360mm(L×W×H)含推板厚度。
4.额定功率：330KW。
5.温控点数：共计30组。
6.炉温稳定性：±1℃。
7.炉膛有效截面温场均匀度：±5℃。
8.炉体外表面温升：<30℃。
9.主推速度：4-15mm/min,连续无极可调。
10外形尺寸：30000×1700×1800mm(L×W×H)
三、设备组成结构：
本设备用于烧成基片时分为排胶段、升温段、保温段、冷却段四段;用于复平基片时分为升温段、保温段、冷却段三段。
