检测基体：铁基、铜基、铝基、镍基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基

全新立式全谱光谱采用国际标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，与国际光谱仪技术同步，采用真空光学室设计及全数字激发光源、ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有高的性能、低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。

主要技术参数：

光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

波长范围：120nm~589nm

焦距：400mm

探测器：高性能CCD阵列

光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

放电频率：100-1000Hz

放电电流：400A

工作电源：220VAC 50/60Hz

仪器尺寸：650*860*1200

仪器重量：约235kg（不含真空系统）

检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右

电极：钨材喷射电 

光学恒温：34℃± 0.3℃

氩气要求：99.999％

氩气进口压力：0.5MPa

氩气流量：激发流量约3.5L/min

工作温度：10℃～35℃

工作湿度：20％～85％

分析间隙：真空软件自动控制、监测

产品特色

优化设计的真空光学系统

１、整体光学室装置、帕邢-龙格结构设计，所有谱线集成在罗栏园上。

２、直射式光学技术及透镜ＭｇＦ２材料，保证Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波长的能量。

全数字激发光源

全数字、高能预燃技术（HEPS），不同样品设置不同的激发参数，提高样品的测量精度和相似性，提高样品激发速度，提高火花稳定性，使样品有更好的重现性。

功能性设计的激发装置

１、集成气路、喷射电极技术，开放式铜火花台，不仅保证样品测量精度还能购测量各种复杂形状的样品（含线材）。

２、 单板式透镜装置设计，一般人员都能方便对激发台进行进行维护和透镜的清洗。

高集成、高速度读出系统

１、高性能CCD固态检测技术，波段内谱线全谱接收。

２、FPGA及高速数据通讯技术，数据读入功能强大，检测数据整体读入时间短。

直观、易操作的分析软件

１、基于WINDOWS系统的多国语言的ＣＣＤ全谱分析软件的管理和控制整个测量过程，为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力。

２、仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析及*的解决方案。

仪器实现全谱分析，智能扣干扰，扣暗电流、背景和噪声的算法，提高了仪器的分析能力。