品牌
其他厂商性质
深圳市所在地
紫外·可见·近红外分光光度计 UV-3600Plus
面议
紫外可见分光光度计UV-2600i/2700i
面议
紫外可见分光光度计UV-1900i
面议
SPECORD® 250 PLUS紫外可见分光光度计
面议
紫外可见分光光度计 Lambda 650/850/950
面议
紫外可见近红外分光光度计UH5700
面议
Cary 5000 紫外可见近红外分光光度计
面议
日立ZA3000系列原子吸收分光光度计
面议
原子吸收分光光度计AA-7000
面议
日立UH4150紫外可见近红外分光光度计
面议
哈希DR3900 台式可见光分光光度计
面议
LUMEX石墨炉原子吸收MGA-1000
面议特点：
• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应
• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单
• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm
• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料
• 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室
5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等；
5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520
