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主要特点：
- 主机可同时安装双炉体
- 光源脉冲宽度软件控制，连续可调
- PulseMapping技术
- 可提供适用于特殊材料、特殊应用的样品支架
技术参数：
- 温度范围：-120 … 2800°C（不同炉体）
- 激光源：Nd:Glass激光，能量可调
- 导热系数：0.1 ... 2000W/mK
- 真空度：10-5 mbar
- 样品尺寸：方形8X8mm，10X10mm；圆形Ø6mm，Ø10mm，Ø12.7mm，Ø20mm；厚度0.1 … 6mm
- 测试气氛：真空、惰性或反应气体
- 支架类型：石墨、氧化铝、碳化硅
- 样品形态：固体、液体、粉末、薄膜
