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P-2G金相试样抛光机
P-2G型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面。 参考价面议 -
P-1金相试样抛光机
P-1型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面。 参考价面议 -
MC-2000C涂层测厚仪
一、涂层测厚仪MC-2000C产品概述MC-2000C型涂层测厚仪（镀层测厚仪）是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、触摸按键、单探头全量程测量、体积小、重量轻；且具有存储、读出、统计、低电压指示、系统校准 参考价面议 -
MCW-2000B涡流涂层测厚仪
MCW-2000B涡流涂层测厚仪一、涡流涂层测厚仪MCW-2000B型产品概述MCW-2000B型（涡流）涂层测厚仪是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、无校正旋钮、单探头全量程测量、体积小、重量轻；且具有存储、读出、低电压指示 参考价面议 -
涂层测厚仪 MC-2000A型
涂层测厚仪MC-2000A型MC-2000A型涂层测厚仪（镀层测厚仪）是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、无校正旋钮、单探头全量程测量、体积小、重量轻；具有存储、读出、统计、低电压指示、零点校准、两点校准及系统校准 参考价面议 -
涂层测厚仪MC-2000C型
涂层测厚仪MC-2000C型MC-2000C型涂层测厚仪（镀层测厚仪）是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、触摸按键、单探头全量程测量、体积小、重量轻；且具有存储、读出、统计、低电压指示、系统校准 参考价面议 -
涂层测厚仪MC-2000D型
涂层测厚仪MC-2000D型MC-2000D型涂层测厚仪（镀层测厚仪）是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、触摸按键、单探头全量程测量、体积小、重量轻；具有存储、读出、统计、低电压指示、系统校准 参考价面议 -
涂层测厚仪MC-2010A型
涂层测厚仪MC-2010A型MC-2010A型涂（镀）层测厚仪采用单片机技术，测量精度高、数字显示、操作简单方便、触摸按键、内置探头全量程测量、体积小、重量轻;强大的抗力，求值更稳定；且具有低电压指示、统计、系统/零点/两点校准功能 参考价面议 -
（涡流）涂层测厚仪 MCW-2010A型
（涡流）涂层测厚仪MCW-2010A型MCW-2010A型（涡流）涂层测厚仪采用抗干扰技术、测量精度高、数字显示、功耗低、内置探头全量程测量、机型小巧、操作简捷；且具有欠电指示、统计、系统/零点/两点校准功能 参考价面议 -
（涡流）涂层测厚仪 MCW-2000B型
（涡流）涂层测厚仪MCW-2000B型MCW-2000B型（涡流）涂层测厚仪是的结晶,它采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、无校正旋钮、单探头全量程测量、体积小、重量轻；且具有存储、读出、低电压指示、其性能达到当代国际同类仪器的*水平 参考价面议 -
WDS系列数显式电子试验机（单柱）
一、设备概述：WDS系列数显式电子试验机根据GB/T2611-2007《试验机通用技术要求》和GB/T16491-2008《电子式试验机》标准制造 参考价面议 -
WE-800D数显式液压试验机
一、产品简介WE-800D型数显式液压试验机是采用了液压驱动、手动控制、专用数据采集仪表，其由主机、油源控制柜、数据采集仪表、试验附具四部分组成，试验力800kN，试验机准确度等级为1级 参考价面议