真空气氛高温烧结炉

ZK/QF-60-20真空气氛高温烧结炉

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具体成交价以合同协议为准
2024-02-08 07:34:41
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湘潭市三星仪器有限公司

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产品简介

真空气氛高温烧结炉广泛应用于结构陶瓷、功能陶瓷、硬质合金、生物陶瓷、人工晶体、复合材料等的烧结试验。

详细介绍

真空气氛高温烧结炉

采用高纯石墨作发热体,WRe热电偶作测温元件,用精密数显程序控温仪控温,能实现炉温的自动程序升降。由二级真空机组对炉膛进行抽真空,可实现样品的真空烧结,同时也可注入保护气氛或反应气氛作气压高温烧结。设备广泛应用于结构陶瓷、功能陶瓷、硬质合金、生物陶瓷、人工晶体、复合材料等的烧结试验。

1、额定温度:2000℃,长期工作温度:1800℃;

2、电源及功率:AC380V/60KW;
3、炉膛尺寸:∮300×300mm,立式顶开盖水冷密封结构;
4、测温:WRe热电偶+精密数显程序控温仪;
5、控温:电力变压器+可控硅移相调压+智能PID调节+程序升降温;
控温精度:±1℃;
6、发热元件及结构:钨丝侧挂△形连接,隔热材料:高强石墨;
7、空炉冷态极限真空度:8×10-4Pa,压升率:2.0Pa/h;
8、真空获得:机械真空泵+分子泵真空机组;
9、真空测量:复合真空计+热偶真空管+电离真空管;
10、能充入N2、Ar、H2等气氛进行实验(气源气瓶需方另备);
11、双层不锈钢水冷壳体,带冷却水断水及欠压保护功能;
12、带超温报警及保护功能。


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