聚光科技E5000电弧直读发射光谱仪 核心参数

• 波长范围 190nm~680nm
• 通道数 全谱检测
• 刻线数 2400
• 焦距 400mm
• 仪器种类 台式
• 激发方式 电弧
• 检测器类 电荷耦合元件（CCD）

E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点，分析性能达到了水平。作为创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等*技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。E5000发射光谱仪产品结构设计

E5000发射光谱仪产品结构设计

●电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术

● Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素

●紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷

●防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大

●高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法

●多重连锁和监控，确保操作安全可靠

●全自动电极激光对准系统

●粉末样品直接进样，方便迅速

●一键激发，立刻获得分析结果

●内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率

●软件开放所有高级功能，为客户提供的方法开发平台

E5000发射光谱仪全谱测量技术

●全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发

●基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度

- 方便查看谱线及干扰情况

- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式

●强大的自动谱线去干扰算法

- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线

- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线分开，有效消除谱线的干扰

●根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确

- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度

- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围

背景扣除 多峰拟合 适配曲线

CCD高速数采系统

●防溢出线阵CCD

●采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围

Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统

● 恒温型全固定光学系统

● 全反射式光路

● 光室结构紧凑

● 一体式固定

● 光学器件少，性能稳定

● 基于CCD的全谱采集和分析

全新一代电弧数控光源

●数控光源体积小、效率高

●基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节

●分析不同含量的元素，选择的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度

●可设置及读取不同检测阶段的数据

一键激发及全自动对准电极

●样品装载激发一气呵成，方便快捷

●多元素同时分析，直接得到最终结果

●设计精良的电极挟持旋钮

●红外激光对准、*的电极激光自动对准技术

●水冷电极夹提高检测稳定性

多重连锁和安全保护

●可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热

●实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒

●界面上有关键温度的显示，时间查看仪器的运行情况

●排风监控，消除废气影响

●特殊的风道设计提高稳定性

强大的分析软件

●便捷易用的分析软件

- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作

- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节

软件界面

●强大的多元素分析平台

- 便捷的全谱查看

- 多元素分析及多谱线选择

- 一键激发，直接在软件上得到分析结果

- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护

可分析元素及多谱线选择

●全面智能的软件算法

- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析

- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法

- 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验

E5000发射光谱仪内置工作曲线及基底扣除

● 的智能漂移校正技术

利用全谱丰富的谱线信息，自动完成仪器校正，使得分析数据更稳定

E5000发射光谱仪技术参数