◇ 终端产品水电阻率大于15MΩ.cm；细菌内毒素小于1EU/mL；TOC小于20ppb；粒径小于0.5μm的微粒≤10个/mL；细菌总数≤10个/mL。
◇ 在线显示工艺流程图，可监控系统运行状态。
◇ 水质在线检测，显示。
◇ 供水采用自动恒压供水系统，供水压力：0.3MPA，供水流量：500L/H。并具有调节修改功能，用户可根 据需求自行修改供水参数。
◇ 配有压和无压两种供水方式，可匹配任何品牌任何型号生化分析仪使用。
◇ 可供多台生化分析仪使用。
◇ 制水系统采用PLC全自动控制
◇ 产水量：50L/H、100L/H、150L/H、250L/H、300L/H、500L/H、750L/H、1000L/H
◇ 控制功能：全自动供水、正冲、反冲、再生、预处理自动控制机头具有LED动态彩条显示功能
◇ 主机采用反渗透膜元件、系统脱盐率：99%。并配有自动定时清洗装置
◇ 产水水质符合国家实验室用水GB6682-2008用水标准
◇ 采用反渗透+双纯水EDI工艺
◇ 两年内无需更换耗品、且以后无需更换树脂

◇ 产水量：5000L/H
◇ 水质：电阻率10MΩ.cm
◇ 制水工艺采用：反渗透+双纯水EDI技术
◇ 产水符合国家电子工业用水标准
◇ 运行成本低，占地面积小、水质稳定
◇ 无污水排放、不会因再生而停机

应用领域：
电镀(镀金、镀银、镀络、塑料电镀、镀铬、镀锌)等用纯水、玻璃镀膜用电镀超纯水超声波清洗、超音波清洗用纯水、化学镀、电泳用纯水或超纯水汽车、家电、建材产品表面涂装、清洗纯水或超纯水，其它要求的表面处理用纯水或超纯水。电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;电子管生产;电子管阴极涂敷碳酸盐配液;显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产;玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;液晶显示器的生产;屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等.

注：双纯水EDI为本公司技术，无需更换耗品，环保节能，取代以往的离子换交树脂

双纯水EDI与传统EDI膜块比较具有以下优点：
◇ 具有双纯水通道的EDI膜块、能耗低、产水量大
◇ 膜块内部阻力小、不易堵塞、不易破损
◇ 工作压力小、不易漏水、使用寿命长
◇ 超宽纯水通道、换交面积大、无需多级、产水电阻率高
◇ 电导性强的浓水通道、无需加盐、无需循环
◇ 加宽极水通道、不腐蚀、防止结垢