PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

　　该型号PECVD为成仪新款，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点，在PECVD前端加入了气体预热区，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。

　　主要特点：

　　1. 气体预热——增加前端气体预热区，沉积速度更快，成膜效果更好;

　　2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成仪AIO控制系统;

　　3. 管内压力自动平衡——管内压力实时监测，自动平衡管内压力。

　　4. 智能气路通断——每路气体均可定时通断，省时省力;

　　5. 射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行;

　　6. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离;

　　7. 整机结构融为一体——移动方便，避免分散组装的困扰。