三维电解设备的构成

1，森洋三维电解设备包括反应室、脉冲稳压电源、进水系统，反应室内设有隔水板、布水板，所述隔水板上设有溢流堰、yinliu管，所述布水板与反应室底部形成布水区，所述布水区内设有曝气管，所述布水板上设有相间排列且平行相对的阴极板和阳极板，所述阴极板和阳极板之间填充有粒子电极，形成 电极反应区，所述反应室侧面设有出水口，所述出水口侧面设有远程监控装置，所述进水系统包括进水管、出水管，进水管与布水区连通，出水管与废水区连通，所述电极反应区的上方依次为缓冲区、浮渣收集区。

三维电催化氧化设备的氧化还原反应：

　　1.在电场作用下，存在于电极表面或溶液相中的修饰物能促进或抑制在电极上发生的电子转移反应，而电极表面或溶液相中的修饰物本身并不发生变化的一类化学作用。

　　2.在电解槽内加入外接电源，根据废水性质选用石墨、铁、钛等作为电极，三维电解除两个电极外，在电解槽中还加入了一些特殊加工的活性填料。当两极通电时，这些填料也带电形成第三电极。

　　3.氧化反应：当有机物在电极表面发生阳极氧化，可能会发生直接氧化以及间接氧化这两种反应。直接氧化是指有机物与电极催化层之间直接进行电子传递过程，并且除了电子以外溶液中没有其它物质参与反应，而后者是指有机物被电极表面催化层产生的氧化物质氧化而除去。直接氧化反应理论上只有在低于电极自身析氧电位下该反应才可以进行，而且该反应通常速度都较慢。

　　4.三维电解设备设备还原反应：有机物在电极表面发生阴极还原反应时，可能会发生直接还原反应以及间接还原反应这两种反应。直接还原反应是指有机物与电极表面催化层进行电子传递，反应速率相对较慢。而相比较而言，间接还原反应的反应速率则要快很多。通过电解产生O2和溶解的O2在阴极上发生还原反应产生活性H2O2，并在金属电极的作用下产生·OH，反应体系中的有机物在·OH的作用下发生快速氧化反应及自由基链反应，使废水中COD去除。

三维电解设备去除氨氮的原理

废水进入电解系统以后，在不同条件下，在阳极上可能以不同途径发生氧的氧化反应：

⑴氨的直接电氧化，即氨在极板表面直接被氧化成氮气，从而达到脱除效果；

⑵氨的间接电氧化，即通过极板反应生成氧化性物质，该物质再与氨反应使氨降解、脱除