大型双面研磨机的主要用途：

本机主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、光学玻璃、铌酸锂、砷化钾、陶瓷片等薄脆金属或非金属的研磨或抛光。

大型双面研磨机主要特点：

1、采用交流变频电机驱动，软启动、软停止，平稳可靠。

2、油压升降齿圈、非常平稳，太阳轮下有垫片可调整位置，有效利用了齿圈和太阳轮。

3、上盘单独设置了缓降气缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。

4、通过使用电子预置计数器，研磨的圈数、要求可准确控制。

5、可以采用修盘方式修整研磨盘。

6、可与ALC（频率监控仪）连接。

大型双面研磨机技术参数：

1、研磨盘直径（MM）:φ849×φ274×30                

2、大理想研磨直径（MM）：φ270

3、加工件平面平行度：0.2μ(φ10)                     

4、游轮参数：英制DP12，Z=150

5、游轮数量：5个                                 

6、小研磨厚度：0.15mm(φ10)

7、主机功率：5.5KW（研磨）7.5KW（抛光）         

8、下研磨盘转速(rpm):0~60

9、砂泵功率：370W                               

10、流砂形式：循环或点滴

11、设备外形尺寸（MM）：1250×1540×2780          

12、重量（KG）：~3200