一、高纯水设备（EDI）概述                    EDI高纯水设备作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用高纯水。
 二、高纯水设备的本质及原理
 
    EDI高纯水设备将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元,EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室,又在单元组两端设置阴/阳电极,在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除,而通过浓水室的水将离子带出系统。
    EDI高纯水设备技术介绍：EDI电去离子设备一般以反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI纯水电阻率可以高达17MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统工艺、配置不同，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水。
三、EDI高纯水设备的特点
 
  　1、可连续，稳定地生产高品质纯水，无需因树脂再生而停机；
    2、无污染物排放，既环保又省去了废液处理的投资；
    3、设备结构紧凑，占地面积小，节省空间，同时还具有节能优点；
    4、出厂完成装置调试，现场工作量小，上岗培训容易；
    5、日常保养，操作简单，劳动强度低。
    6、脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。
四、高纯水设备的工艺流程
  
   （1）预处理→二级反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(工艺)
   （2）、预处理→二级级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(工艺)
   （3）、预处理→二级反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(工艺)
   （4）预处理→一级反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥10MΩ.CM)(工艺)
 
五、高纯水设备的应用领域
 
   1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
　2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
　3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
　4.食品工业用水:饮用纯净水、矿泉水、资料、啤酒、乳业等。
　5.海水、苦咸水淡化:海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善。
　6.楼宇、社区优质供水:星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等。
　7.化工行业工艺用水:化工冷却、化肥、化学药剂制造。
　8.工业产品制造用水:汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等。
　9.电力行业锅炉补给水:热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统 精细化工、精尖学科用水。