上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 系列
上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 参考价面议上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160
上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列最da,离子能量 zui强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,最da电流超过 1000 mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率 参考价面议上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA. 参考价面议上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 参考价面议上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 参考价面议上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA. 参考价面议上海伯东KRI 考夫曼离子源 KDC 系列
上海伯东美国进口考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流. 参考价面议普发干式涡旋泵 HiScroll 6, 涡旋干泵
上海伯东德国 Pfeiffer 干式涡旋泵 HiScroll 6, 抽速 6.1 m3/h, 极限真空 1.5 X 10-2 hPa, 防护等级 IP20, 提供防爆型号. 干式涡旋泵 HiScroll 6 通用电压, 低噪音, 振动小, 设计紧凑, 既满足工业应用也适用于实验室使用.普发干式涡旋泵 HiScroll 6, 涡旋干泵 参考价¥50000干式螺杆泵 HeptaDry P 系列
凭藉 Pfeiffer 干式螺杆泵 HeptaDry™ 干式真空泵, 上海伯东德国 Pfeiffer 再次为工业界提供了一款高品质高可靠性的产品。此系列干式螺杆泵 真空泵非常适合于低、中真空的应用需求。 参考价¥13隔膜泵 MVP 系列
上海伯东销售维修德国普发 Pfeiffer 干式真空泵 - 隔膜泵 MVP 系列, 干燥无油, 紧凑设计, 低振动, 低噪音, 普发真空的 MVP 隔膜泵非常适合集成在真空系统同时也是 Pfeiffer 分子泵的理想前级泵, Pfeiffer 隔膜泵, 抽速范围 0.25 到 9.6 m3/h, 多种型号满足不同应用. 参考价¥14残余气体分析仪
上海伯东德国 Pfeiffer 残余气体分析仪(四级杆质谱仪)集高灵敏度, 高稳定性和智能操作于一体, 配置新一代的操作软件 PV MassSpec, 可定量定性评估真空系统中的残余气体成分. 可检测分压 3 X10-15 hPa. 参考价¥17伯东代理标准型分子泵组 Hicube Classic
上海伯东销售维修德国 Pfeiffer 标准型涡轮分子泵组 Hicube Classic 系列. Hicube Classic 涡轮分子泵组适用于所有高真空和超高真空应用, 分子泵组抽速 大可达 685 l/s, 前级泵可搭配干式隔膜泵 MVP系列和旋片真空泵 DuoLine 系列. 参考价¥12