半导体溅射膜片清洗设备

半导体溅射膜片清洗设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-04-15 08:34:39
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苏州华林科纳半导体设备技术有限公司

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产品简介

华林科纳清洗设备

详细介绍

 

⑴超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。⑵工艺过程:上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→下料2.结构特点:本设备为柜体式,操作面带有透明门窗。⑴槽体材料为德国进口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德国磁白色PP板,外型美观实用。⑵设备超声,加热清洗时间由定时器控制。⑶加热槽装有温控表(pompon)和传感器。⑷每个清洗槽互不影响,超声、冲洗清洗槽的上给水(冲洗清洗槽配有热水)、下排水为手动方式。⑸配有可调节式的排风装置。⑹配有美国进口氮qi qiang。 ⑺电控部分采用密封保护方式配有紧急停机及报警装置。
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