纳米材料研磨分散机
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CMSD2000纳米材料研磨分散机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2019-06-18 18:45:44
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上海依肯机械设备有限公司

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产品简介

纳米材料研磨分散机,纳米研磨分散机,纳米材料研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及的f分散效果。

详细介绍

纳米材料研磨分散机,纳米研磨分散机,纳米材料研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及的f分散效果。

纳米材料纳米材料可分为三大类:一是一维纳米粒子;二是二维纳米固体(包括薄膜和涂层、管、线);三是三维纳米体材(包括介孔材料)

包括纳米金属氧化物  纳米二氧化硅,纳米* 纳米氧化铝,纳米氧化锌,纳米氧化铈,纳米氧化铁,纳米氧化铋,纳料ATO合金 纳米金属 如纳米银纳米金等的功能还有一些纳米盐类 

纳米材料的

纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。

纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较*,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。对于硬团聚,不同化学组成不同制备方法有不同的团聚机理,无法用统一的理论来解释。因此需要采取一些特殊的方法来对其进行控制。

纳米材料研磨分散机是

是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

1  线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

包括CMD2000,CMSD2000研磨机  

ru 

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 德国IKN制造

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