1.电子工业超纯水处理设备概述

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

我公司依据客户的特殊需求，应用超滤、反渗透、EDI、抛光混床等*的技术产品，以满足不同的电子元器件生产对水质特殊的要求。产品水水质可达到我国电子级水质标准的各级指标要求。

2.制备电子工业超纯水处理设备的工艺流程

采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺.

其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 

3.应用领域

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水；光学玻璃镀膜、光电子及光纤；超纯材料和超纯化学试剂；汽车、家电表面抛光处理；
光电子产品；其他高科技精微产品；

4超纯水处理设备特点：

按需定制，柔性生产；占地节省，维护简易

5.标准法规

中国国家电子级超纯水规格 GB/T11446.1-1997